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ZTD-800B单晶硅炉

简要描述:ZTD-800B单晶硅炉为生产太阳能电池用的单晶炉,坩埚尺寸18-22英寸,产量从60-130Kg,单晶硅棒直径6.5-8英寸,设备高度为6.1-6.7米,主要可生产主流8英寸单晶硅棒。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-11-03
  • 访  问  量:220

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详细介绍
品牌自营品牌产地类别国产
应用领域综合

ZTD-800B单晶硅炉

ZTD-900B单晶硅炉

ZTD-950B单晶硅炉

技术参数:

型号

名称

额定功率

额定温度

主炉室尺寸

熔料重量

ZTD-800B

单晶硅炉

140KW

1600℃

800×1050mm

60KG







ZTD-900B

单晶硅炉

160KW

1600℃

900×1050mm

90KG







ZTD-950B

单晶硅炉

180KW

1600℃

950×1050mm

130KG

设备用途:

ZTD-800B单晶硅炉为生产太阳能电池用的单晶炉,坩埚尺寸18-22英寸,产量从60-130Kg,单晶硅棒直径6.5-8英寸,设备高度为6.1-6.7米,主要可生产主流8英寸单晶硅棒。

本公司可提供生长工艺,保证生长出合格的单晶硅。设有样机,欢迎来人参观考察。

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ZR-12-10实验用中温真空炉

详细描述:

采用箱式炉结构炉柜一体化设计,适用高校科研单位进行材料的真空或保护气氛下的热处理,炉内设有一耐热钢炉罐,罐内安装有料台及保温层。

主要参数如下:

1.额定功率:12kw

2.炉罐内尺寸:160*250*400mm

3.高温度:1000度

4.极限真空度:<10Pa



ZR-12-11真空电阻加热炉

设备用途:

本设备是用镍铬合金丝作发热元件的实验用内热式真空热处理炉,炉体与控制柜一体化结构,卧式炉体,侧面打开炉门,适用于金属材料在高真空、中温条件下进行回火、退火、钎焊、烧结、除气处理,同时也适于金属化合物的真空热处理用。

设备特点:

整个设备为方形箱体结构,卧式炉体,装取料方便;所有动作操作均在炉体正面操作完成,操作方便,集控制柜与炉体一体化结构,占地小,节约占地面积;耗水量少,使用方便,用户只要水、电齐全就可以直接使用,集成安装水、电、气接口。

主要技术参数:

1、额定功率:12KW

2、额定使用温度:1100℃(气氛保护下)

3、大有效加热空间:Φ120×200㎜

4、冷态极限真空度:5×10-4 Pa

5、压升率:≤2.0 Pa/h

6、电源:380V/50Hz

7、充气介质:氩气、氮气或少量氢气

8、大充气压力:<0.03MPa

9、控温精度:±1℃



ZT-50-16晶体退火炉

用途:

真空晶体退火炉是用石墨作发热元件的立式实验用真空电阻炉,炉底装料电动升降,供金属化合物、陶瓷、无机化合物、纳米材料等在真空或保护气氛中烧结制品。

技术参数:

1、型式:立式,底盘下沉

2、额定功率:50±10%Kw

3、电源电压:三相  380V  50Hz

4、高温度:1600℃

5、工作区尺寸:Φ300×300

6、升温速率:15℃/min

7、恒温区温度均匀性:≤±10℃(1400℃)

8、冷态极限真空度:6.67×10-3Pa

9、工作真空度(空炉):5×10-2Pa

10、压升率:≤2Pa/h

11、1路充气管路,充气冷却

12、充气压力:<0.03MPa(相对压力)

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